مصر: فرض أول عقوبة على مها الصغير بعد اتهامها بسرقة لوحة للفنانة الدنماركية ليزا

ـ فن
اختفى الحساب الرسمي لعلامة “مها الصغير” للمنتجات الجلدية من منصة إنستجرام بشكل مفاجئ، وذلك في أعقاب اتهامات خطيرة بسرقة تصميمات فنية وأعمال إبداعية.
جاء هذا التحرك بعد أيام من اندلاع عاصفة انتقادات واسعة طالت العلامة التجارية المحلية، حيث اتهمها فنانون تشكيليون دوليون ومتابعون بالاستخدام غير المصرح به لأعمالهم الفنية في مجموعتها الأخيرة من المنتجات.
كشفت التحقيقات الأولية أن العلامة التجارية استخدمت لوحات فنية تعود ملكيتها لفنانين أوروبيين دون الحصول على حقوق النشر أو إذن مسبق منهم.
كما أشارت تقارير فنية متخصصة إلى وجود تشابه كبير بين تصميمات الحقائب المعروضة وبين تصاميم العلامة العالمية المعروفة “HB Boot Corral”، مما أثار شكوكاً جدية حول التصاميم المقدمة.
تصدرت الفنانة التشكيلية الدنماركية لاش نيلسن قائمة المعترضين، حيث أكدت عبر حسابها الرسمي على إنستجرام أن إحدى اللوحات التي عرضتها خلال استضافتها في برنامج تلفزيوني شهير هي في الواقع عملها الأصلي الذي أنجزته عام 2019.
وأوضحت ليزا أن الصورة الأصلية كانت منشورة على موقع ، وتم استخدامها كما هي دون أي تعديل أو نسب للمؤلف الأصلي، في انتهاك صارخ لحقوق الملكية الفكرية.
يعتبر اختفاء الحساب الرسمي للعلامة من إنستجرام دون إيضاح رسمي خطوة غير مسبوقة في المشهد التجاري المحلي، وقد فسرها الكثيرون في الأوساط الفنية والتجارية كاعتراف ضمني بالمخالفات، خاصة في ظل عدم صدور أي بيان توضيحي من إدارة العلامة حتى الآن لتوضيح الموقف أو الرد على الاتهامات.
طالب نشطاء ومتخصصون في مجال الأزياء والفنون بفتح تحقيق شامل للوقوف على حقيقة التصميمات المقدمة وآليات اعتمادها، مع التأكيد على أهمية احترام حقوق الملكية الفكرية في الصناعة الإبداعية.
وتأتي هذه المطالبات في إطار سلسلة من القضايا المماثلة التي شهدها السوق المحلي مؤخراً، مما يستدعي في نظر الخبراء مراجعة شاملة لآليات الرقابة وحماية الملكية الفكرية.
وفقاً للقانون المصري، تعتبر سرقة الأعمال الفنية جريمة يعاقب عليها القانون، حيث تنص المادة 181 من الملكية الفكرية على عقوبات تصل إلى الحبس والغرامة المالية في حال ثبوت التعدي على حقوق المؤلفين. ويتوقع مراقبون أن تشهد الفترة المقبلة تحركات قانونية من قبل الفنانين المتضررين، كما يتوقع أن تدفع هذه الواقعة الجهات المعنية إلى مراجعة سياسات حماية الملكية الفكرية في مجال الأزياء والتصميم بشكل عام.